GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備是一種專門為晶圓級(jí)光學(xué)加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全幅紫外納米壓印設(shè)備，可在200mm基底面積上平行復(fù)制生產(chǎn)聚合物光學(xué)器件。

GL8 MLA Gen2是一種專門為晶圓級(jí)光學(xué)加工（WLO-Wafer Level Optics）開發(fā)的全幅紫外納米壓印設(shè)備，可在200mm基底面積上平行復(fù)制生產(chǎn)聚合物光學(xué)器件。

該設(shè)備支持從晶圓級(jí)母模具表面自動(dòng)復(fù)制柔性復(fù)合工作模具，工作模具具有精度高，壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)，可以顯著降低大面積納米壓印工藝中模具使用成本。內(nèi)置的點(diǎn)膠系統(tǒng)、APC（主動(dòng)模具基底平行控制）技術(shù)、以及自動(dòng)脫模功能都保證了大面積晶圓級(jí)光學(xué)生產(chǎn)的精度、均勻性（TTV）與良率。同時(shí)，自動(dòng)模具基底對(duì)位系統(tǒng)還可實(shí)現(xiàn)晶圓之間對(duì)位堆疊工藝（WLS-Wafer Level Stacking）。

GL8 MLA納米壓印設(shè)備適用于DOE、勻光片（Diffuser）、微透鏡陣列、菲涅爾透鏡等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)。GL8 MLA Gen2工藝紫外納米壓印光刻設(shè)備主要功能●經(jīng)過量產(chǎn)驗(yàn)證的200mm晶圓級(jí)光學(xué)生產(chǎn)（WLO）設(shè)備

●APC主動(dòng)模具基底平行控制技術(shù)，確保大面積晶圓壓印TTV均勻性

●設(shè)備內(nèi)自動(dòng)復(fù)制柔性復(fù)合工作模具，降低大面積納米壓印模具使用成本

●內(nèi)置自動(dòng)點(diǎn)膠功能

●自動(dòng)壓印、自動(dòng)曝光固化、自動(dòng)脫模，工藝過程無需人工干預(yù)

●標(biāo)配高功率紫外LED面光源（365nm，光強(qiáng)>1000mW/cm2 ），水冷冷卻，特殊功率以及特殊、混合波長(zhǎng)光源可訂制，支持各種商用納米壓印材料

●標(biāo)配設(shè)備內(nèi)部潔凈環(huán)境與除靜電裝置

●隨機(jī)提供全套納米壓印工藝與材料，包括標(biāo)準(zhǔn)示范WLO等工藝流程，幫助客戶零門檻達(dá)到高質(zhì)量的納米壓印水平

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